全氟化碳来源及消除:电子行业减排

      在薄膜晶体管液晶显示器生产过程中需要用全氟化碳做等离子刻蚀的反应性气体和在化学气相沉积工艺中做清洗气体。生产过程:使氢氟化碳和氟气在汽相中、在较高的反应温度下,在第一反应区中接触获得,形成气态反应混合物,将气态反应混合物作为稀释气体引入第二反应区,在较高的温度下与必要时,与氟气一起送入第二反应区的氢氟化碳接触,两个反应区的氢氟化碳并不相同。

      解决方案: 一是工艺改进。优化清洗工艺,提高效率,最优方案可降低排放20-50%。 二是替换化学品。采用C3F8替代CF4和C2F6,可降低70%的排放量。 三是工艺生产线终端排放量削减技术。焚毁、催化焚毁和等离子销毁。使用H2和CH4,通入空气或者氧气,在1200度左右转换,并通过脱水和吸附,进一步清楚有害气体。


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